真空比對標(biāo)準(zhǔn)裝置性能研究及計量軟件設(shè)計

2014-04-17 賈軍偉 北京東方計量測試研究所

  為研究真空比對標(biāo)準(zhǔn)裝置的性能,減少真空計量過程的不確定度。通過實驗對真空比對標(biāo)準(zhǔn)裝置的極限真空度、漏率、動態(tài)穩(wěn)定度和體積膨脹比進行了研究,分析了該裝置的不確定度影響因素。針對標(biāo)準(zhǔn)裝置僅能手動操作、真空規(guī)計量過程復(fù)雜、人工數(shù)據(jù)處理繁瑣的情況,基于Labview 8.2開發(fā)平臺,依據(jù)真空比對校準(zhǔn)裝置的基本工作原理和真空規(guī)檢定/校準(zhǔn)規(guī)程規(guī)范,開發(fā)了真空規(guī)檢定/校準(zhǔn)程序,覆蓋了各種真空規(guī)的檢定/校準(zhǔn),給出一種多個被檢器并行計量的模塊化結(jié)構(gòu),實現(xiàn)數(shù)據(jù)的自動處理,原始記錄和證書的批量生成。

  近30年來國內(nèi)外在真空計量方面做了大量工作,真空比對裝置作為工作標(biāo)準(zhǔn)得到廣泛應(yīng)用。真空比對標(biāo)準(zhǔn)裝置用于真空度測量儀器的檢定/校準(zhǔn),將態(tài)比對法、靜態(tài)比對法和靜態(tài)膨脹法三種方法復(fù)合在一套裝置上,以滿足拓寬量程的要求從而對真空規(guī)進行檢定/校準(zhǔn)。動態(tài)比對法是用面密封微調(diào)閥將一恒定的氣體流量注入校準(zhǔn)室中,當(dāng)注入的氣體和抽走的氣體達到穩(wěn)定的動平衡時,用二等標(biāo)準(zhǔn)電離真空計或磁懸浮轉(zhuǎn)子真空計、被校真空計同時測量校準(zhǔn)室中的壓力,然后將所測得結(jié)果直接比對。靜態(tài)比對法是當(dāng)系統(tǒng)的本底滿足要求后,關(guān)閉閘板閥,用微調(diào)閥將所需壓力注入到校準(zhǔn)室中,待校準(zhǔn)室中的壓力平衡后,用電容規(guī)和被校真空計同時測量校準(zhǔn)室中的壓力,然后將所測得結(jié)果直接比對。靜態(tài)膨脹法是基于玻意爾-馬略特定律,克努曾于1910年最早提出膨脹法壓力校準(zhǔn)系統(tǒng)的研究。真空計量的自動化是目前真空計量發(fā)展的方向,Labview是一種程序開發(fā)環(huán)境,由美國國家儀器(NI)公司研制開發(fā)的,類似于C和BASIC開發(fā)環(huán)境。近年來,由于Labview的便捷性在真空計量領(lǐng)域得到越來越廣泛的應(yīng)用。

1、真空比對標(biāo)準(zhǔn)裝置

  該裝置原理圖如圖1所示,校準(zhǔn)室采用不銹鋼材質(zhì)的球形容器,球形容器內(nèi)最容易建立起均勻的分子流場,為了保證參考標(biāo)準(zhǔn)規(guī)和被校規(guī)面對相同的真空條件,校準(zhǔn)室按對稱結(jié)構(gòu)設(shè)計,氣體注入點和抽氣口位于校準(zhǔn)室的兩個極點。校準(zhǔn)室上標(biāo)準(zhǔn)CF35法蘭接口用于接參考標(biāo)準(zhǔn)規(guī)和被校規(guī)等,它們位于與入口和出口連成的軸線相垂直的同一赤道平面內(nèi)。

真空比對標(biāo)準(zhǔn)裝置原理圖

圖1 真空比對標(biāo)準(zhǔn)裝置原理圖

3、結(jié)論

  實驗結(jié)果表明在300℃的溫度下,連續(xù)運行15h后開始逐漸降溫,經(jīng)過4h的降溫到38℃時,測得極限真空度為4.3×10-6Pa。在常溫常壓下,裝置從開機到經(jīng)過1h后,容器真空度為4.82×10-5 Pa。采用噴吹法檢漏,各CF法蘭接口處漏率均為10-11 Pa·m3/s量級,薄膜規(guī)接口處的漏率為2.0×10-10 Pa·m3/s。各實驗點的動態(tài)穩(wěn)定均小于1%;膨脹室體積為0.5ml時,平均體積膨脹比為4.717×10-5;膨脹室體積為5ml時,平均體積膨脹比為3.111×10-4。

  該裝置的檢定/校準(zhǔn)程序,具有很強的實用性和通用性,特別是針對真空計量中一次檢定多個被檢儀表情況。在基本信息的錄入中可以避免很多人工重復(fù)的勞動;在數(shù)據(jù)處理過程中通過程序?qū)崿F(xiàn)數(shù)據(jù)自動運算,自動判定給出結(jié)論,并按照一定的模式存儲,從而有效的提高了勞動效率。依托程序框架和其中較通用的模塊,可以較方便擴展到真空等計量專業(yè)的自動化檢定/校準(zhǔn)中。