真空蒸發(fā)鍍膜的物理過程

　　將膜材置于真空室內(nèi)的蒸發(fā)源中，在高真空條件下，通過蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā)，膜材蒸氣的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后，且當(dāng)蒸氣分子的平均自由程大于真空室 的線性尺寸以后，很少受到其他分子或原子的沖擊與陰礙，可直接到過被鍍的基片表面上，由于基片溫度較低，便凝結(jié)其上而成膜。其原理如圖1 所示。

　　1.基片加熱器;2.真空室;3.基片架;4.基片;5.膜材;6.蒸發(fā)舟;7.蒸發(fā)熱源;8.排氣口;9.密封圈;10.擋板;11.膜材蒸汽流

　　圖1 真空蒸發(fā)鍍膜原理圖

　　為了提高蒸發(fā)分子與基片的附著力，對(duì)基片的附著力，對(duì)基片進(jìn)行適當(dāng)?shù)募訜峄蚬�清洗使其活化是必要的�?/p>

　　真空蒸發(fā)鍍膜從物料蒸發(fā)輸運(yùn)到沉積成膜，經(jīng)歷的物理過程為：

　　1)采用各種能源方式轉(zhuǎn)換成熱能，加熱膜材使之蒸發(fā)或升華，成為具有一定能量的氣態(tài)粒子;

　　2)離子膜材表面，具有相當(dāng)運(yùn)動(dòng)速度的氣態(tài)粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運(yùn)到基片表面;

　　3)到達(dá)基片表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長(zhǎng)成固相薄膜;

　　4)組成薄膜的原子重組排列或產(chǎn)生化學(xué)鍵合。

　　為使蒸發(fā)鍍膜順利進(jìn)行，應(yīng)具備兩個(gè)條件：蒸發(fā)過程中的真空條件和鍍膜過程中的蒸發(fā)條件。